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電鍍廢水處理技術(shù)(一)——含氰廢水處理

2024/1/4 9:22:24 / 作者:污水處理設備公司 / 來(lái)源:山藝環(huán)保

含氰廢水處理技術(shù)

1.堿性氯化

適用于處理含無(wú)機氰化物或氰合金屬基配合物(鐵氰配合物除外)的含氰廢水。常用含氯氧化劑為次氯酸鈉、漂白粉、二氧化氯。工藝控制條件為: 第一階段 H 值為 10~11、化還原電位為 300 mV~350mV,第二階段 H值為8~9、化還原電位為 600mV700mV: 反應時(shí)間取決于待處理廢水中總氰化物含量(一般為1h~1.5h) ;有效氯(以 C計)的消量與總化物(以CN計)量的比為6~10,反應后廢水中余氯量應在 2 mg/L~5 mg/L,經(jīng)處理后廢水中總氰化物(以CN計)含量小于 0.2 mg/L。該技術(shù)藥劑來(lái)源廣泛,投資和運行成本低,但出水含余氯及其他含氯副產(chǎn)物,設備腐蝕較嚴重。

2.過(guò)氧化氫氧化

適用于處理含無(wú)機氰化物或氰合金屬基配合物(鐵氰配合物除外) 的中低濃度含氰廢水。工藝控制條件為: 氧化反應 H值大于 7: 過(guò)氧化氫與總化物(以 CN計) 的摩爾比為 2:1: 氧化時(shí)間取決于化物濃度和氧化溫度(一般為 1h) 。處理后廢水中總氰化物(以 CN-計) 含量小于 0.2 mgL。該技術(shù)不產(chǎn)生二次污染,但過(guò)氧化氫易燃易爆的特性對運輸及儲存要求較高。

3. 臭氧氧化

適用于處理含無(wú)機氰化物或氰合金屬基配合物(鐵氰配合物除外) 的中低濃度含氰廢水。工藝控制條件為: 氧化反應 pH值為 9~11: 一級氧化反應臭與總氰化物(以 CN 計) 的摩爾比為 1:1:二級氧化反應臭氧與總氰化物(以 CN計) 的摩爾比為 2.5: 1: 氧化時(shí)間取決于總氰化物濃度和氧化溫度(一般不小于 15 min),若采用亞銅離子作為催化劑,可縮短反應時(shí)間。處理后廢水中總氰化物(以CN計)含量小于 0.2 mg/L。該技術(shù)不產(chǎn)生二次污染,無(wú)需添加藥劑,但臭氧發(fā)生設備投資高,運行時(shí)電耗較高,處理能力受臭發(fā)生設備制約。

4. 電解

適用于處理含無(wú)機氰化物或氰合金屬基配合物(鐵氰配合物除外) 的含氰廢水。工藝控制條件為:進(jìn)水 pH 值為 9~10:氯化投加量可按總化物(以 CN計) 度的 30~60 倍估算:陽(yáng)極電流密度宜控制在 0.3 A/dm2~0.5 A/dm,電壓宜為6V~8.5V。處理后廢水中總化物(以CN計) 含量小于 0.2 mg/L。該技術(shù)占地面積小,廢水中金屬離子一般直接沉積到陰極上,產(chǎn)生沉淀量小。

建議

1.含氰廢水處理技術(shù)參數應滿(mǎn)足 GB 50136、HJ2002 要求6.1.2.1.2含氰廢水經(jīng)過(guò)處理總氰化物達到控制要求后可進(jìn)入電鍍混合廢水處理系統,去除重金屬離子。

2.采用堿性氯化技術(shù)處理含氰廢水時(shí),應在加蓋密閉和集氣抽風(fēng)條件下收集產(chǎn)生的氣體,經(jīng)處理達到 GB 16297 要求后通過(guò)排氣簡(jiǎn)排放。6.1.2.1.4采用電解、過(guò)氧化氫氧化技術(shù)處理含廢水時(shí),處理過(guò)程中產(chǎn)生的氨氣應收集并處理,達到 GB 14554 要求后通過(guò)排氣簡(jiǎn)排放。


 

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