產(chǎn)品簡(jiǎn)介

隨著(zhù)電子產(chǎn)品應用領(lǐng)域日益擴大，半導體對我國發(fā)展具有重要的意義。半導體涉及行業(yè)廣泛，根據生產(chǎn)原料及工序的不同，產(chǎn)生廢水的廢水性質(zhì)也不同，但都存在著(zhù)排水量大，污染能力強的特點(diǎn)，嚴重危害生態(tài)環(huán)境健康的同時(shí)也制約其發(fā)展。

產(chǎn)品詳情

概述：

隨著(zhù)電子產(chǎn)品應用領(lǐng)域日益擴大，半導體對我國發(fā)展具有重要的意義。半導體涉及行業(yè)廣泛，根據生產(chǎn)原料及工序的不同，產(chǎn)生廢水的廢水性質(zhì)也不同，但都存在著(zhù)排水量大，污染能力強的特點(diǎn)，嚴重危害生態(tài)環(huán)境健康的同時(shí)也制約其發(fā)展。

污水來(lái)源和特點(diǎn)：

根據半導體生產(chǎn)廢水污染物的特點(diǎn)，可將半導體廢水分為三類(lèi)，主要來(lái)源于生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的含氟廢水、有機廢水及金屬離子廢水，詳細介紹如下：

1、含氟廢水，廢水主要來(lái)自于半導體生產(chǎn)工序的刻蝕段，由于使用了大量的氫氟酸、氟化銨等試劑，產(chǎn)生的污染如氟化物、氨氮等濃度較高，廢水一般呈強酸性；

2、有機廢水，其污染物質(zhì)主要是一些常規污染物，生產(chǎn)濃度跟生產(chǎn)工藝及操作管理水平關(guān)系較大，COD一般在200～3000mg/L；

金屬離子廢水，半導體廢水中的金屬離子種類(lèi)眾多，主要如銅、鎳、錫、鉛、銀等，濃度一般在幾十mg/L。

處理難點(diǎn)分析：

高濃度的含氟廢水處理難度大，一般的化學(xué)沉淀法難以徹底去除水中的氟離子，在排放要求高的時(shí)候，應對其采用多種組合工藝處理。

半導體有機廢水濃度不會(huì )太高，但不同企業(yè)的水質(zhì)變化大，其進(jìn)水水質(zhì)需根據化驗監測結果來(lái)確定。

對于不同種類(lèi)的高濃度金屬離子廢水，應該分開(kāi)收集進(jìn)行處理，若廢水中含金屬離子種類(lèi)較多，工藝流程會(huì )較長(cháng)。

污水處理工藝：

含氟廢水一般采用化學(xué)沉淀法，投加鈣鹽與水中的氟離子形成CaF2，再加以混凝劑輔助即可去除水中的氟離子。出水要求高時(shí)，可與生化法、吸附法等聯(lián)合運用。

有機廢水一般采用經(jīng)濟高效的生化法，如單獨的好氧法或與缺氧法、厭氧法組合工藝，對于廢水中COD、氨氮、總氮等常規污染物去除效果非?？捎^(guān)。

金屬離子廢水則需針對不同廢水不同種類(lèi)進(jìn)行選擇，常用的有化學(xué)沉淀法、吸附法、離子交換法等。

半導體行業(yè)生產(chǎn)需水甚多，用水要求不高，一般建議將廢水做回用處理，以節約生產(chǎn)成本。具體可見(jiàn)我司